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电子作用超高真空蒸发源.pdfVIP

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  • 2023-04-25 发布于北京
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电子作用超高真空蒸发源.pdf

    本发明公开了一种电子作用超高真空蒸发源，其中，包括基座、蒸发组件、水冷保护套和温控组件，所述蒸发组件设于所述基座上；所述水冷保护套设于所述基座上，套设在所述蒸发组件外；所述水冷保护套与所述基座组成蒸发内腔；所述温控组件设于所述基座上，同时与所述蒸发组件和所述水冷保护套电连接，用于实时监测和控制所述蒸发内腔中的温度。本申请公开的电子作用超高真空蒸发源通过在基座上设置温控组件调节蒸发过程中的温度，从而控制蒸发速率，提升蒸镀效果。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114032511 A (43)申请公布日 2022.02.11 (21)申请号 202111353532.X (22)申请日 2021.11.16 (71)申请人 哈尔滨工业大学（深圳）

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