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- 2023-04-25 发布于北京
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本申请提供一种蒸镀设备,包括蒸镀基台;蒸镀源,包括多个坩埚,每一坩埚在蒸镀基板上对应一蒸镀区,蒸镀区包括一非重叠蒸镀子区和重叠蒸镀子区,重叠蒸镀子区由相邻两坩埚在蒸镀基板上对应的两蒸镀区部分重叠形成;速率监控模块,用于获取任一坩埚在蒸镀基板上对应的非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率;调节模块用于获取坩埚的开口大小信息,接收坩埚在非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率,并根据第一蒸镀速率、第二蒸镀速率以及坩埚的开口大小信息调节坩埚的开口大小,以使坩
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114032509 A
(43)申请公布日 2022.02.11
(21)申请号 202111315737.9
(22)申请日 2021.11.08
(71)申请人 TCL华星光电技术有限公司
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