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- 2023-04-25 发布于四川
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半导体存储器件可以包括:外围电路结构,该外围电路结构包括在第一区域中集成在半导体衬底上的外围电路和设置在第二区域中的第一键区;堆叠,提供在外围电路结构的第一区域上,该堆叠包括在第一方向上延伸并垂直地堆叠的多条第一导电线;覆盖该堆叠的上绝缘层;提供在上绝缘层上的互连层;穿透插塞,与堆叠间隔开,并且被提供为穿透上绝缘层以将互连层连接到外围电路结构的外围电路;模制结构,提供在外围电路结构的第二区域上,并且在第一方向上与堆叠间隔开;以及穿透结构,提供为穿透模制结构并与第一键区垂直地重叠。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114068573 A
(43)申请公布日 2022.02.18
(21)申请号 202110829327.X H01L 27/11526 (2017.01)
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