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- 2023-04-25 发布于北京
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本发明提供对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法，对准装置包括：对准测量位置信息存储部，存储与基板的对准测量位置相关的信息；以及测量部，根据基于与上述对准测量位置相关的信息获得的基板和掩模的对准标记的图像，测量基板与掩模的相对的偏移，与上述对准测量位置相关的信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114032498 A
(43)申请公布日 2022.02.11
(21)申请号 202111324015.X C23C 14/54 (2006.01)
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