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一种具有AlGaN/InGaN超晶格势垒层的量子阱LED及其制备方法,属于半导体发光器件技术领域。从下至上依次由衬底、成核层、n型GaN层、具有AlGaN/InGaN超晶格势垒层的多量子阱有源层、电子阻挡层和p型GaN层组成,在p型层和n型层上分别设有上电极和下电极。电极由热蒸镀或电子束蒸发方法制备,其余各层通过金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法制备。本发明根据所需发光波长确定多量子阱中InGaN阱层的组分后,通过极化强度和禁带宽度的计算调控超晶格势垒层的组分,可以在保证势垒层禁带宽度大于
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115995514 A
(43)申请公布日 2023.04.21
(21)申请号 202310194705.0
(22)申请日 2023.03.03
(71)申请人 吉林大学
地址 130012
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