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用于增强等离子体控制的EM源.pdfVIP

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  • 2023-04-25 发布于四川
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用于增强等离子体控制的EM源.pdf

    公开用于在PVD沉积工艺期间控制等离子体分布的设备和方法。一些实施方式在沉积期间利用放置在靶上方的EM线圈来控制等离子体分布。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114072535 A (43)申请公布日 2022.02.18 (21)申请号 202080049329.0 (74)专利代理机构 北京律诚同业知识产权代理

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