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本发明公开一种显示装置的制造方法，包括：形成第一导电层于基板的遮蔽区；形成改质层于第一导电层上，且改质层的厚度不大于第一导电层的厚度；形成第二导电层于改质层上，且第二导电层的厚度不小于第一导电层的厚度；形成缓冲层于第二导电层及基板的非遮蔽区上；形成像素层于缓冲层上，像素层包括多个子像素；形成覆盖层于像素层上；将第二导电层的部分与改质层分离，以取得显示单元，其中，显示单元包括覆盖层的部分、像素层、缓冲层的部分及第二导电层的部分；移除显示单元上的第二导电层的部分；以及形成载板于显示单元的缓冲层的部分
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114141704 A
(43)申请公布日 2022.03.04
(21)申请号 202111337348.6 H01L 33/00 (2010.01)
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