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描述了一种用于基板处理系统的真空取向模块。所述模块包括至少第一真空取向腔室,包括:真空腔室;第一运输轨道,所述第一运输轨道在所述真空腔室内,所述第一运输轨道具有第一支撑结构和第一驱动结构并且限定运输方向;取向致动器,所述取向致动器在非竖直取向与非水平取向之间改变基板取向,所述真空腔室在所述运输方向上在所述真空腔室的相对侧壁处具有第一对两个狭缝开口、特别是基本上竖直的狭缝开口;和第二运输轨道,所述第二运输轨道在所述真空腔室内,所述第二运输轨道具有沿所述运输方向延伸的第二支撑结构和第二驱动结构,所述
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114144872 A
(43)申请公布日 2022.03.04
(21)申请号 201980098413.9 (51)Int.Cl.
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