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本发明公开了一种铝模板表面清洗剂，该清洗剂包括如下重量份原料：缓蚀剂6‑8份、葡萄酸钠3‑5份、乙酸5‑8份、硅酸钠2‑5份、脂肪酸甲酯乙氧基化物磺酸盐2‑5份、去离子水40‑50份；该缓蚀剂分子中的N、O、S原子以及π电子能够作为吸附中心，通过吸附作用形成保护膜，同时当铝模板与酸性介质接触时，缓蚀剂分子会在铝模板表面形成单分子吸附膜，改变氢离子的氧化还原电位，同时也可以络合溶液的氧化剂，减小其电位达到缓蚀的效果，且该缓蚀剂为咪唑啉季铵盐，使得形成的保护膜与铝模板致密度增加，进而使得铝模板在清洗
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 114107994 B
(45)授权公告日 2022.07.26
(21)申请号 202111401938.0 C23G 1/12 (2006.01)
(22)申请日 2021.11.
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