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本发明公开了一种变焦式工业大麻种植用定距分散补光装置，包括桁架、横梁和变焦补光单元；变焦补光单元包括光强可变式光源机构、变焦透镜机构和多个分层补光机构；光强可变式光源机构能够调节照射在工业大麻植株冠层叶片上的光照强度；变焦透镜机构能够对光强可变式光源机构发出的光线进行发散；分层补光机构用于接收经过变焦透镜机构后位于边沿部分的光线并对工业大麻植株底层叶片进行分层补光；本发明能够根据工业大麻植株的高度变化调整对工业大麻植株冠层的光照强度，以保持工业大麻植株冠层对补光强度的恒定，避免浪费能源，更经济环
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114165754 A
(43)申请公布日 2022.03.11
(21)申请号 202111633511.3
(22)申请日 2021.12.29
(71)申请人 东莞
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