一种真空工艺控制方法、装置、终端设备及存储介质.pdfVIP

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2023-04-27 发布于北京
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一种真空工艺控制方法、装置、终端设备及存储介质.pdf

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本发明公开了一种真空工艺控制方法、装置、终端设备及存储介质，方法包括：根据真空箱内部的几何尺寸和电容器单元的几何尺寸建立有限元仿真模型；根据真空箱内每一注油口布置的气压传感器位置、真空箱出风口布置的气压传感器和风速传感器位置，设置关于有限元仿真模型的条件边界；获取所有气压传感器和风速传感器采集到的传感器数据；根据传感器数据对每个条件边界的参数进行设置；根据有限元仿真模型和条件边界进行仿真计算，得到仿真结果；仿真结果包括每个电容器单元内部的气压和水含量；根据仿真结果对每个电容器单元内部的真空度进行

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114167822 A (43)申请公布日 2022.03.11 (21)申请号 202111304849.4 (22)申请日 2021.11.05 (71)申请人深圳供电局有限公司地