背照式图像传感器及其形成方法.pdfVIP

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  • 2023-04-27 发布于北京
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一种背照式图像传感器及其形成方法,其中形成方法包括:提供第一衬底,第一衬底包括像素区,像素区内具有第一离子,第一衬底具有相对的第一面和第二面;在像素区内形成若干深沟槽;在深沟槽侧壁形成本征外延层;在本征外延层的表面形成掺杂外延层,掺杂外延层内具有第二离子;在第一面形成填充层,填充层封闭深沟槽的开口;在形成填充层之后,在第一面上形成器件层,器件层内具有若干器件结构。通过先在深沟槽内形成本征外延层和掺杂外延层,利用本征外延层对深沟槽的侧壁损伤进行修复;再在第一面形成器件层。因此能够有效避免在形成本征

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114141799 A (43)申请公布日 2022.03.04 (21)申请号 202111535668.2 (22)申请日 2021.12.15 (71)申请人 华虹半导体(无锡)有限公司

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