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本发明涉及最小化照射非均匀性的系统和方法。本发明涉及一种用于照射处理衬底(1)的处理表面(5)以获得预定义温度分布的方法,处理表面(5)包括第一区域(11)和第二区域(13),第一区域(11)具有光学特性和热特性的第一组合,并且第二区域(13)具有光学特性和热特性的第二组合,第一组合和第二组合是不同的。本发明的另一目标是一种用于照射处理衬底(1)的处理表面(5)以获得预定义温度分布的系统(21),处理表面(5)包括第一区域(11)和第二区域(13),第一区域(11)具有光学特性和热特性的第一组合
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114203537 A
(43)申请公布日 2022.03.18
(21)申请号 202111097510.1
(22)申请日 2021.09.18
(30)优先权数据
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