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本发明公开了一种CIGS基体均匀加热装置及其加热控制方法，CIGS基体均匀加热装置包括有从前往后顺次连通的进片腔、升温腔、匀温腔、工艺腔、传送腔和出片腔，设置于升温腔内的腔盖加热升温装置和底部加热升温装置，设置于工艺腔内的底部加装装置，两个分别设置于匀温腔和传送腔内的高温计，以及主控器；腔盖加热升温装置的可控硅加热控制器、底部加热升温装置的可控硅加热控制器、底部加装装置的可控硅加热控制器、两个高温计均与主控器连接。本发明保证CIGS基体实现高温磁控溅射沉积，且保证CIGS基体加热温度的均匀性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114203858 A
(43)申请公布日 2022.03.18
(21)申请号 202111541110.5
(22)申请日 2021.12.16
(71)申请人 凯盛
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版权声明书
用户编号：7160061112000031
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