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本发明属于光刻技术领域，公开了一种梯形结构的顶部抗反射涂层聚合物和顶部抗反射涂层组合物及其制备方法。本发明提供的梯形结构顶部抗反射涂层聚合结构式如式(1)所示，其中，R1和R2各自独立地为C1‑C20的亚烷基；p、m、n为各重复单元的摩尔分数，p:m:n的比例为(0.25～0.9):(0.1～0.75):(0.1～0.75)。本发明提供的顶部抗反射涂层聚合物具有多链梯形结构，具有98％以上的光透射率和1.81以上的折射率；同时，该顶部抗反射涂层聚合不溶于水，可溶于显影溶液中，因此可用于浸没式光刻
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114195989 A
(43)申请公布日 2022.03.18
(21)申请号 202111633280.6
(22)申请日 2021.12.29
(71)申请人 福建泓光半导体材料有限公司
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