半导体制造装置.pdfVIP

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2023-05-04 发布于北京
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半导体制造装置.pdf

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实施方式提供一种能够使自由基生成的控制性提高的半导体制造装置。实施方式所涉及的半导体制造装置具备容纳半导体基板的腔室和设置于腔室的侧面的多个线圈。腔室具有：在半导体基板的上方被作为多个线圈之一的第1线圈包围的第1空间区域、与第1空间区域连通的第1气体导入口、被多个线圈中的与第1线圈不同的第2线圈包围的第2空间区域和与第2空间区域连通的第2气体导入口。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114267571 A (43)申请公布日 2022.04.01 (21)申请号 202110776703.3 (22)申请日 2021.07.09 (30)优先权数据 2020-1557