一种干刻下部电极的制作工艺.pdfVIP

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2023-05-04 发布于北京
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一种干刻下部电极的制作工艺.pdf

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本发明公开了一种干刻下部电极的制作工艺，包括如下步骤：S1、制作金属基材，所述金属基材包括给电部；S2、在给电部安装陶瓷圈和金属棒；S3、对金属基材上表面进行喷砂处理，使金属基材上表面的粗糙度不小于3微米；S4、在金属基材上表面用悬浮液等离子喷涂形成下电介质层；S5、在下电介质层上表面喷涂形成电极层；S6、在电极层上表面用悬浮液等离子喷涂形成上电介质层；S7、加工上电介质层，使上电介质层上表面形成周边凸起。本发明提供一种下部电极的制作工艺，电介质层和浮点材料采用YF3粉末或Y5O4F7粉末。采用

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114256039 A (43)申请公布日 2022.03.29 (21)申请号 202111571441.3 C23C 4/134 (2016.01) (22)申请日 2