腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备.pdfVIP

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2023-05-04 发布于北京
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腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备.pdf

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本发明实施例提供了一种腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备，应用于半导体装备技术领域，该方法包括：从多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，以及确定处于闲置状态的目标气体分析仪，打开目标气体分析仪与目标工艺腔室之间的隔离阀，并关闭目标气体分析仪与其它工艺腔室之间的隔离阀，使目标气体分析仪只与目标工艺腔室连通，启动目标气体分析仪，使目标气体分析仪在根据目标工艺腔室内的气体成分确定目标工艺腔室泄漏的情况下，输出指示目标工艺腔室泄漏的第一报警信息。在包括多个工艺腔室的半导体工艺设备中，多个工艺腔

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114256104 A (43)申请公布日 2022.03.29 (21)申请号 202111435874.6 (22)申请日 2021.11.29 (71)申请人西安北方华创微电子装备有限公司