基板处理系统、半导体装置的制造方法以及存储介质.pdfVIP

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2023-05-04 发布于北京
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基板处理系统、半导体装置的制造方法以及存储介质.pdf

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本发明提供一种基板处理系统、半导体装置的制造方法及存储介质，在具有多个处理容器的基板处理系统中，能防止废气堆积在处理容器的排气管且对气体供给管的环境气体进行排气。具有：多个处理容器，收纳基板；气体供给管，分别与多个处理容器连接，供给处理气体；第一排气部，对多个处理容器内的环境进行排气；第二排气部，对气体供给管内的环境进行排气，经由切换阀与气体供给管连接，与第一排气部不同；控制部，构成为能以执行下述步骤的方式对切换阀、第一排气部和第二排气部进行控制：a)从气体供给管向处理容器供给处理气体来处理基板

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114256089 A (43)申请公布日 2022.03.29 (21)申请号 202110297200.8 (22)申请日 2021.03.19 (30)优先权数据 2020-1598