用于控制光刻装置的方法.pdfVIP

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2023-05-04 发布于北京
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用于控制光刻装置的方法.pdf

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一种确定光刻装置的控制设置的方法。该方法包括：基于与一个或多个先前衬底相关联的第一计量数据，获得针对当前衬底上的当前层的第一校正；以及获得针对当前衬底上的当前层的第二校正。第二校正是基于根据与当前衬底上的先前层相关联的第二计量数据确定的残差而获得的。该方法还包括通过组合第一校正和第二校正来确定用于在当前衬底上图案化当前层的光刻装置的控制设置。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114270271 A (43)申请公布日 2022.04.01 (21)申请号 202080059125.5 J ·科特塔尔　 (22)申请日 2020.07.