一种高品质几何参数抛光片的有蜡贴片工艺.pdfVIP

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2023-05-05 发布于北京
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一种高品质几何参数抛光片的有蜡贴片工艺.pdf

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本发明公开了一种高品质几何参数抛光片的有蜡贴片工艺。该工艺包括以下步骤：(1)将硅片放在一个圆形吸盘上，硅片与吸盘之间靠真空固定，吸盘与硅片的圆心重合于一点，吸盘以1000‑3000rpm的转速携带硅片旋转，此时向硅片圆心处注入0.1‑10mL液体蜡，吸盘及硅片持续旋转1‑60s，液体蜡在离心力的作用下，涂覆在硅片背表面；(2)将吸盘及硅片转速提高到3500‑5000rpm，此时向硅片圆心处注入0.1‑10mL液体蜡，吸盘及硅片持续旋转1‑60s，液体蜡在离心力的作用下，涂覆在硅片背表面；(3)

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114310653 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202111436473.2 B24B 37/34 (2012.01)