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一种反应腔室尾气压力控制装置及半导体工艺设备.pdfVIP

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  • 2023-05-05 发布于四川
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一种反应腔室尾气压力控制装置及半导体工艺设备.pdf

    一种反应腔室尾气压力控制装置及半导体工艺设备，包括依次连接于反应腔室的排气口的第一冷凝组件、横向连接块、第一排气管、自动控压阀、第二排气管以及设于横向连接块的下方，且与第一排气管连通的水盒，自动控压阀与横向连接块还设有压力检测管，还包括温控组件和排水管，其中：温控组件用于将第一排气管和第二排气管维持在预设温度范围内，以使进出自动控压阀的尾气温度稳定；第二排气管通过排水管与水盒连接，且用于与厂务排气管连接。本发明实施例，通过温控组件使进出自动控压阀的尾气温度稳定，从而避免自动控压阀的上游和下游的温

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114300386 A (43)申请公布日 2022.04.08 (21)申请号 202111553963.0 (22)申请日 2021.12.17 (71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司

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