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本发明涉及一种优化导通电阻的集成肖特基VDMOS器件,属于功率半导体技术领域。本发明采用在P型阱区纵向上多次开孔集成肖特基接触的方式,没有增加器件元胞的横向面积,保证了器件的正向导通能力与传统结构基本一致,同时利用肖特基接触为反向恢复提供电流通路,来降低体二极管的反向恢复电荷,加快反向恢复过程。本发明的优化导通电阻的集成肖特基VDMOS结构具有更好的开关特性和反向恢复能力,同时器件静态特性与传统结构基本一致。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114284345 A
(43)申请公布日 2022.04.05
(21)申请号 202111594706.1
(22)申请日 2021.12.23
(71)申请人 电子科技大学
地址
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