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2023-05-05 发布于四川
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本发明涉及一种蚀刻液，用于平板显示制程中银纳米线透明导电膜的蚀刻处理，属于金属材料表面处理技术领域。所述蚀刻液包含无机酸、有机酸、无机酸盐、表面活性剂、助剂和去离子水，所述助剂含有苯并咪唑类化合物，其结构式如下：其中，R1为C1‑C5的直链或者支链烷烃；R2为氢、C5‑C12芳环基、C5‑C12单环基、C5‑C12二环基或C5‑C12三环基取代基；Ar为苯、萘或蒽结构取代基。该蚀刻液能够高效地对银纳米线透明导电膜进行蚀刻，同时较好地解决了金属银析出的问题。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114277374 A (43)申请公布日 2022.04.05 (21)申请号 202210023908.9 (22)申请日 2022.01.10 (66)本国优先权数据 2021106