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本发明公开了一种单面粗化引线框架及其制备方法,对引线框架基材进行前处理单面贴膜工艺;再采用双向脉冲电流,对经过前处理的引线框架基材进行先预镀铜后电镀粗铜处理;后对所述电镀粗铜进行后处理,即完成所需单面粗化的引线框架。本发明所述方法可提高引线框架在封装过程中的可靠性,从而稳定达到MSL1的水平,使封装后的集成电路在使用过程中不会产生分层,集成电路的使用寿命可以得到保证。引线框架包括本体、粗铜层和银层,本体为铜,粗铜层将本体包裹,银层位于粗铜层部分区域上。提高引线框架在封装过程中的可靠性,使封装后的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114284155 A
(43)申请公布日 2022.04.05
(21)申请号 202111603533.5 C25D 7/00 (2006.01)
(22)申请日 20
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