用于含金属的抗蚀剂层的原位沉积和致密化处理.pdfVIP

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2023-05-05 发布于四川
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用于含金属的抗蚀剂层的原位沉积和致密化处理.pdf

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本申请涉及用于含金属的抗蚀剂层的原位沉积和致密化处理。本文公开了可以改进光刻分辨率的含金属的抗蚀剂层(例如，金属氧化物抗蚀剂层)、用于形成含金属的抗蚀剂层的方法以及使用含金属的抗蚀剂层的光刻方法。示例性方法包括：通过执行沉积工艺在工件之上形成金属氧化物抗蚀剂层，以在工件之上形成金属氧化物抗蚀剂层的金属氧化物抗蚀剂子层；以及对至少一个金属氧化物抗蚀剂子层执行致密化工艺。每个沉积工艺形成金属氧化物抗蚀剂子层中的相应一个。致密化工艺使至少一个金属氧化物抗蚀剂子层的密度增加。可以调整沉积工艺的参数和/或

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114334620 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202110659598.5 (22)申请日 2021.06.15 (30)优先权数据 63/085,61