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本申请提供了一种终端结构、制作方法以及功率器件,包括:第一外延层;位于第一外延层一侧的掩埋层;贯穿掩埋层的第一掺杂区,第一掺杂区与掩埋层的掺杂类型相反;位于掩埋层背离第一外延层一侧的第二外延层,第二外延层内具有主结扩展区以及场限环;位于第二外延层背离所述掩埋层一侧的氧化层;其中,第二外延层和第一外延层均与掩埋层的掺杂类型相反;在第一方向上,场限环位于主结扩展区与第一掺杂区之间,第一方向垂直于第一外延层指向第二外延层的方向。本发明技术方案提供的终端结构、制作方法以及功率器件,提高了终端结构的耐压能
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114284348 A
(43)申请公布日 2022.04.05
(21)申请号 202210085312.1
(22)申请日 2022.01.25
(71)申请人 湖北九峰山实验室
地址
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