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本发明涉及一种简化制程的刀刮二极管芯片的制作方法,在底部进行磷源扩散制作N+,上部进行硼源扩散制作P+,N+底部及P+上部均设有镍/金金属层,芯片四周及边缘“鸟嘴”均包裹在玻璃钝化保护层内;其制作流程:基片清洗、磷扩散、一次吹砂清洗、硼扩散、二次吹砂清洗、氧化退火、一次光刻、沟槽腐蚀、鸟嘴腐蚀、清洗、刮涂玻璃粉(含擦粉)、玻璃钝化、去氧化、镀镍/金、电性测试、激光切割等工序。本发明鸟嘴处直接做腐蚀使其下移,此时鸟嘴处于与台面平齐的玻璃保护之下,不易打火,耐压高,可靠性好;且在刮涂玻璃后采用较易操
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114335190 A
(43)申请公布日 2022.04.12
(21)申请号 202111568536.X
(22)申请日 2021.12.21
(71)申请人 南通康芯半导体科技有限公司
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