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本发明公开了一种阵列基板和阵列基板的制作方法,阵列基板包括:扫描线、栅极和栅极绝缘层;形成在栅极绝缘层上方的第一半导体层和导电连接线;形成在栅极绝缘层上方的蚀刻阻挡部,蚀刻阻挡部位于第一半导体层的上方;形成在栅极绝缘层上方的源极、漏极和数据线,源极、漏极以及蚀刻阻挡部共同覆盖第一半导体层;数据线包括多个第一导电段和多个第二导电段,第一导电段均位于相邻的两根扫描线之间,第二导电段的一端分别与第一导电段电性连接,第二导电段的另一端跨过扫描线与另一第一导电段电性连接,相邻的两根第二导电段分别与导电连接
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114335019 A
(43)申请公布日 2022.04.12
(21)申请号 202111634981.1
(22)申请日 2021.12.29
(71)申请人 昆山龙腾光电股份有限公司
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