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- 2023-05-07 发布于四川
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本发明属于功能薄膜材料技术领域，具体涉及一种硬质低折射率的损耗材料及其制备方法，该损耗材料是具有W置换Ti的、岩盐结构的Ti1‑xWxC固溶体薄膜，薄膜厚度为12‑20nm；制备方法包括以下步骤：将纯TiC靶、纯W靶安装在磁控射频溅射靶中，采用半导体为衬底；抽真空，通入氩气；控制纯TiC靶、纯W靶的溅射功率，在衬底上沉积得到的固溶体薄膜即为硬质低折射率的损耗材料。本发明提供的损耗材料具有高消光系数、低折射率和高硬度的优点，从根本上解决了传统损耗材料的折射率高和硬度低的问题，满足下一代高稳定性的光
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114411092 A
(43)申请公布日 2022.04.29
(21)申请号 202111392371.5
(22)申请日 2021.11.23
(71)申请人 吉林大学
地址 13
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