清洗剂及其制备方法.pdfVIP

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2023-05-07 发布于北京
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清洗剂及其制备方法.pdf

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本申请涉及清洗材料技术领域，尤其涉及一种清洗剂及其制备方法。该清洗剂包括如下重量百分含量的组分：表面活性剂1～10％；其他助剂5～20％；有机溶剂20～50％；余量为水；其中，表面活性剂包括第一非离子型表面活性剂和第二非离子型表面活性剂，第一非离子型表面活性剂为不对称Gemini型烷基糖苷。该清洗剂具有优异的清洗能力，对半导体常用的高铅锡膏有很好的兼容性，同时对非导电材料和导电材料具有良好的兼容性和保护作用，因此，这样的清洗剂在半导体器件的清洗中具有很好的应用前景。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114381340 A (43)申请公布日 2022.04.22 (21)申请号 202111669680.2 C11D 3/60 (2006.01) (22)申请日 20