一种高均质的低钼含量钼铜合金生产工艺.pdfVIP

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2023-05-08 发布于北京
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一种高均质的低钼含量钼铜合金生产工艺.pdf

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一种高均质的低钼含量钼铜合金生产工艺，包括如下步骤：步骤一，钼粉还原：采用粒度为1.0～3.0μm的二氧化钼通过氢气还原得到粒度为1.0～2.0μm的超细钼粉；步骤二，装舟：将超细钼粉装入刚玉舟或者氧化锆舟或者氮化硼舟内，通过刮板将超细钼粉刮平；步骤三，预烧：将步骤二中的刚玉舟或者氧化锆舟或者氮化硼舟推入管式炉中，以松装状态氢气氛预烧，得到多孔钼骨架；步骤四，熔渗：将铜片放置到步骤三后的多孔钼骨架上，进行熔渗获得低钼含量钼铜合金。本方法采用低含量的钼在材料内部形成了烧结骨架，钼颗粒之间属于烧结结

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114411006 A (43)申请公布日 2022.04.29 (21)申请号 202111601598.6 (22)申请日 2021.12.24 (71)申请人海特