一种氧气补充法兰及液冷式半导体尾气清除燃烧筒.pdfVIP

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2023-05-08 发布于四川
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一种氧气补充法兰及液冷式半导体尾气清除燃烧筒.pdf

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本发明公开了一种氧气补充法兰及液冷式半导体尾气清除燃烧筒，旨在解决现在的燃烧室消耗的CDA量过大的不足。该发明包括第一腔和第二腔，第二腔从内到外依次包括第一内腔、第一保温层以及第一水冷层，第一腔由内到外依次包括第二内腔、第二保温层和第二水冷层，第一腔和第二腔可拆卸连接并形成上部开放的容器，第一水冷层和第二水冷层经管路连接，第二水冷层上设有进液口，第一水冷层上设有出液口，第一腔设有氧气补充法兰。装置减少了输入的气体，通过纯氧和尾气的反应，减少了燃爆现象，装置以更静态的姿态运行，避免干扰前序装置。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114427685 A (43)申请公布日 2022.05.03 (21)申请号 202210054219.4 F23L 7/00 (2006.01) (22)申请日 20