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一种调节离子刻蚀均匀性的孔丁和方法.pdfVIP

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  • 2023-05-08 发布于四川
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一种调节离子刻蚀均匀性的孔丁和方法.pdf

    本发明公开了一种调节离子刻蚀均匀性的孔丁，包括帽部和杆部，所述杆部的一端与帽部固定连接，所述杆部的侧面设置有槽口，所述杆部连接于帽部上偏离帽部中心的位置，所述槽口的宽度等于栅网的金属片的厚度，所述杆部上具有多个槽口，多个槽口沿杆部的长度方向均匀分布，相邻两个槽口的间距等于栅网的相邻两片金属片的间距，本发明能够方便的插入栅网上金属片的孔洞内，与栅网形成稳定结构，以方便、迅速的调整离子源栅网的局域的离子浓度，快速优化刻蚀均匀性。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114446745 A (43)申请公布日 2022.05.06 (21)申请号 202210161610.4 (22)申请日 2022.02.22 (71)申请人 浙江艾微普科技有限公司 地址 31

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