半导体清洗装置以及清洗保护方法.pdfVIP

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2023-05-08 发布于北京
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半导体清洗装置以及清洗保护方法.pdf

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本发明提供一种半导体清洗装置，包括：清洗槽，所述清洗槽具有酸洗槽和循环槽；所述循环槽具有两个可开关出口，其中一个所述可开关出口与所述酸洗槽入口通过循环管路连通，以使循环槽中的酸性液体进入酸洗槽中；另一个所述可开关出口连通有排放管路；混合器，所述混合器的出口与所述循环管路连通，所述混合器具有两个入口；第一容器，用于容置预加热的酸性液体，所述第一容器与所述混合器的其中一个入口通过可开关的管路连通；供给主管线，用于供给室温的酸性液体，所述供给主管线与所述混合器的另一个入口通过可开关的管路连通。本发明能

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114429919 A (43)申请公布日 2022.05.03 (21)申请号 202011179824.1 (22)申请日 2020.10.29 (71)申请人中国科学院微电子研究所