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本发明公开一种等离子体真空镀膜系统和镀膜方法，包括涂层机及阴极装置，涂层机提供阳极，阴极装置包括靶台、靶材、空腔辅助阳极、第一脉冲电源、直流弧电源、第二脉冲电源和双极脉冲等离子体震荡器，靶材外侧设有通道，第一脉冲电源的正极与空腔辅助阳极电连接，第一脉冲电源的负极与靶材电连接，直流弧电源的正极电连接阳极，直流弧电源的负极与靶材电连接，第二脉冲电源的正极电连接阳极，第二脉冲电源的负极与工件电连接形成阴极，双极脉冲等离子体震荡器可横向产生振荡型等离子体。本发明能够实现弧光等离子体的横向和纵向的立体轰击
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114411099 A
(43)申请公布日 2022.04.29
(21)申请号 202111659155.2
(22)申请日 2021.12.30
(71)申请人 广东
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