使用带电粒子多束波光刻系统制造独特芯片.pdfVIP

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2023-05-09 发布于北京
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使用带电粒子多束波光刻系统制造独特芯片.pdf

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使用无掩模光刻曝光系统制造电子器件的方法，无掩模光刻曝光系统使用无掩模图案写入器，其中生成用于控制无掩模图案写入器曝光晶片以用于创建电子器件的束波控制数据。基于设计版图数据和选择数据生成束波控制数据，设计版图数据定义适用于要从晶片制造的电子器件的多个结构(例如，过孔)，选择数据定义设计版图数据的哪些结构适用于要从晶片制造的每个电子器件，选择数据定义用于电子器件的不同子集的结构的不同集合。根据束波控制数据对晶片的曝光导致针对电子器件的不同子集曝光具有结构的不同集合的图案。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114488706 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202210050809.X (74)专利代理机构北京市金杜律师事务所