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- 约 28页
- 2023-05-10 发布于四川
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本发明公开一种能够更换消耗品的基板处理装置,是一种维持基板处理装置的腔室工艺环境的同时,能够更换喷头、聚焦环等消耗品的支持方案。根据本发明的能够更换消耗品的基板处理装置包括:工艺腔室,设有执行基板处理工艺的处理空间;升降部件,配置在所述工艺腔室中并在所述处理空间内支承消耗品的同时使所述消耗品升降;门单元,设置在所述工艺腔室的一侧壁面,并随着开闭选择性地提供连接到所述处理空间的通道;以及运输单元,通过所述门单元的通道运输消耗品。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116072496 A
(43)申请公布日 2023.05.05
(21)申请号 202211241499.6
(22)申请日 2022.10.11
(30)优先权数据
10-2021-0147977
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