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一种加热片及其制造方法、加热带及半导体制造设备.pdfVIP

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  • 2023-05-10 发布于四川
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一种加热片及其制造方法、加热带及半导体制造设备.pdf

    本发明公开一种加热片及其制造方法、加热带及半导体制造设备，涉及半导体设备技术领域，以解决加热带中加热线偏移预设位置造成的短路以及发热不均匀的问题。所述加热片包括：第一绝缘薄膜、沉积形成在第一绝缘薄膜上的电热线结构以及第二绝缘薄膜；第二绝缘薄膜形成在第一绝缘薄膜上，用于至少将电热线结构中的间隙进行填充。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114521031 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202011299218.3 (22)申请日 2020.11.18 (71)申请人 中国科学院微电子研

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