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- 2023-05-10 发布于四川
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等离子处理装置具备:对样品进行等离子处理的处理室;供给用于生成等离子的第一高频功率的第一高频电源;载置所述样品的样品台;对所述样品台供给第二高频功率的第二高频电源,在该等离子处理装置中,进一步具备:控制装置,在通过具有第一期间和与所述第一期间相邻的第二期间的第一波形来调制所述第一高频功率、并且通过具有期间A和期间B的第二波形来调制所述第二高频功率的情况下,控制所述第二高频电源,以便在所述第一期间和所述第二期间供给所述期间A的各个所述第二高频功率,所述第二期间的振幅比所述第一期间的振幅小且比0大,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114521283 A
(43)申请公布日 2022.05.20
(21)申请号 202080020805.6 (51)Int.Cl.
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