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本发明涉及低温磁体杜瓦技术领域,具体公开了一种低温磁体杜瓦装置及真空度控制方法。其低温磁体杜瓦装置包括:杜瓦本体,其内部设置有真空腔体;超导模块,设置在真空腔体内部,超导模块与真空腔体内侧壁固定连接;环境调整模块,设置在杜瓦本体一侧,环境调整模块一端穿设过杜瓦本体,设置在真空腔体内部,环境调整模块用于对真空腔体的环境进行调整。通过在杜瓦本体一端设置环境调整模块,用于对杜瓦本体中真空腔体的内部环境进行调整,始终保持超导模块工作中对于真空度和温度的需求,进而延长低温磁体杜瓦装置使用寿命,同时减少了低
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116092768 A
(43)申请公布日 2023.05.09
(21)申请号 202310384945.7 H01F 6/00 (2006.01)
(22)申请日 2023.04.1
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