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- 2023-05-11 发布于四川
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本申请提供了一种晶圆曝光布局的计算方法、装置、电子设备及存储介质,所述计算方法包括:根据预先设置的步进偏移量移动曝光栅格区域,并计算待曝光晶圆中的曝光晶粒在目标曝光区域中的数量;根据曝光栅格区域移动的次数,确定曝光栅格区域移动的总偏移量是否超过预设阈值,若超过,则将数量最大的曝光晶粒所对应的曝光栅格区域作为待曝光晶圆的目标曝光布局,以按照目标曝光布局对待曝光晶圆进行曝光。采用本申请提供的技术方案能够通过设置步进偏移量多次移动曝光栅格区域,将数量最大的曝光晶粒所对应的曝光栅格区域作为待曝光晶圆的目
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114578659 A
(43)申请公布日 2022.06.03
(21)申请号 202210219494.7
(22)申请日 2022.03.08
(71)申请人 北京半导体专用设备研究所(中国
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