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一种用于二氧化硅的激光加热系统.pdfVIP

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  • 2023-05-11 发布于四川
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一种用于二氧化硅的激光加热系统.pdf

    本发明涉及一种用于二氧化硅的激光加热系统。该系统包括脉冲激光器，反射镜，透镜，刚玉坩埚，测温装置，图像获取装置，控制器和计算机。将二氧化硅放入刚玉坩埚中，采用脉冲激光加热，由测温装置测取加热时的温度变化，图像获取装置实时拍摄二氧化硅的熔融状态并传输到计算机中进行图像处理，当达到所需加热状态或者二氧化硅熔融状态不再发生变化，控制模块收到反馈信号停止激光加热。由于二氧化硅的熔点较高，所需的加热炉昂贵，本发明采用激光加热的方式实现非接触加热，提高加热效率，并且能实时分析二氧化硅的加热状态。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114576997 A (43)申请公布日 2022.06.03 (21)申请号 202210204936.0 (22)申请日 2022.03.02 (71)申请人 哈尔滨理工大学 地址 150080

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