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基于掩模法刻写2微米大模场光纤光栅的系统及工作方法，克服传统紫外纳秒激光和近红外飞秒激光刻写的缺陷，解决刻写易擦除和对光纤损耗大的缺点，获得紫外波段飞秒激光光源，实现高精度、低阶次的光纤布拉格光栅刻写，优化刻写光路，提高相位掩模板的利用率而大大降低成本。飞秒激光光源输出的飞秒激光穿过半波片和格兰棱镜，通过旋转半波片调整飞秒激光输出功率，随后进入倍频单元，经反射镜反射到聚焦柱面镜和掩模板上，掩模板固定在电动位移台上实现光斑的扫描刻写；光纤环形器输入端连接放大自发辐射光源，光纤环形器反射端连接待刻光
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116088090 A
(43)申请公布日 2023.05.09
(21)申请号 202310319024.2
(22)申请日 2023.03.29
(71)申请人 北京工业大学
地址 100124
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