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本发明在对作为处理对象的基片供给规定的气体的处理中，适当地检测异常处理。疏水化处理单元(U5)包括：收纳作为处理对象的晶片(W)的处理容器(21)；对处理容器(21)供给空气(第1空气)的开闭部(60)(第1供给部)；对处理容器(21)供给相对湿度与空气不同的HMDS气体(第2气体)的气体供给部(30)(第2供给部)；和控制器(100)(控制部)，控制器(100)基于实施了由开闭部(60)进行的空气的供给和由气体供给部(30)进行的HMDS气体的供给之后的相对湿度，来判断处理容器(21)中的气体
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 108231552 A
(43)申请公布日
2018.06.29
(21)申请号 20171
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