TFT加工艺分析和总结.docxVIP

张凤翔 译摘要 笔记本 PC 用TFT-LCD 要求轻而薄、功耗低，以及具有良好的显示器质量；台式监视器则有不同的要求，如显示器尺寸大、视角宽、清晰度高和亮度高等。然而，对于第 5 代批量生产而言。为满足上述要求就需改进现行的生产工艺，本文就下一代TFT-LCD 的生产工艺作了讨论。 引言 TFT-LCD 跟传统 CRT 相比其优点在于：薄而轻，功耗低，清晰度高，以及电磁干扰（EMI）低。预计 TFT-LCD 监视器和笔记本 PC 市场增涨速度将加快，而且 CRT 显示器的大部分将被TFT-LCD 所取代。TFT-LCD 的增涨有两个关键因素：一是生产成本，一是显示器质量。为了能跟CRT 的低价格和良好的显示质量相竞争，要求 TFT-LCD 的生产厂家能继续在这两个方面加以改进。对大尺寸高清晰度显示器而言，现行 TFT-LCD 工艺和批量生产方法就需予以改进。本文扼要讲述了 TFT 制造工艺的现状，并提出了一些新建议，包括工艺设计，以及TFT-LCD 近期制造工艺用的材料。 TFT 工艺用现行技术 5-7 次掩膜工艺 为了制造传统 TN 模式 TFT 阵器示器，通常，栅汇线，a-si TFT 沟道，数据线，钝化层，开接触孔以及像素电极都是用不同光掩膜工艺步骤来限定的。鉴于有用不同材料制成的四种不同掩膜图样，并且要开出一个接触孔跟其相连，TFT 阵制造所需的最少掩膜次数则为五次。图