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本发明涉及电极箔制造技术领域,尤其是一种高比电容电极箔及其制备方法。高比电容电极箔依序由上置比电容提升功能层、腐蚀箔本体以及下置比电容提升功能层复合而成。上置比电容提升功能层呈现多层复合结构,且由一次二氧化钛膜、一次三氧化二铝层、二次二氧化钛膜逐层生长而成。下置比电容提升功能层呈现多层复合结构,且依序由三次二氧化钛膜、二次三氧化二铝层、四次二氧化钛膜逐层生长而成。一次二氧化钛膜、三次二氧化钛膜分别以腐蚀箔本体正面、背面作为生长基础。如此,一方面,可以有效地提升电极箔内的钛元素含量,且分布均匀性较
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116092834 A
(43)申请公布日 2023.05.09
(21)申请号 202310337240.X C23C 28/04 (2006.01)
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