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本发明公开了一种多腔体PVD‑RTA混合薄膜沉积系统，包括：输运腔体，其内部设置有机械手；上载腔体，其设置于输运腔体旁，并与输运腔体之间设置有第一真空阀门，且上载腔体与外界直接设置有第三真空阀门；工艺腔体，其包括分布于输运腔体旁的薄膜沉积腔体、刻蚀腔体和真空快速退火腔体，并且工艺腔体与输运腔体之间设置有第二真空阀门，本发明将PVD与RTA结合，使晶圆的薄膜沉积、刻蚀和热处理过程中均在真空中，晶圆不需要接触大气，这样，不仅提高了工艺效率，而且提高了薄膜的性能和质量。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114561616 A
(43)申请公布日 2022.05.31
(21)申请号 202210057742.2 C30B 29/32 (2006.01)
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