一种粉体真空镀膜装置.pdfVIP

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2023-05-11 发布于四川
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一种粉体真空镀膜装置.pdf

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本发明涉及粉体改性设备技术领域，尤其涉及一种粉体真空镀膜装置。本发明的粉体真空镀膜装置，包括：真空室；镀膜源，设置于真空室内；粉体盘，用于装载待镀膜的粉体，设置于真空室内，粉体盘与真空室之间设置有翻料机构。本发明的镀膜源产生改性粒子，改性粒子与粉体盘的粉体粒子相互作用，并且覆盖在粉体粒子的表面，可以实现对粉体粒子的表面改性，翻料机构可调整粉体盘两端的相对高度，从而使得粉体盘中的粉体粒子在自重作用下翻滚运动，从而增加与改性粒子之间剪切作用，促进改进粒子和粉体粒子之间的结合，结合更均匀。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116083855 A (43)申请公布日 2023.05.09 (21)申请号 202310227318.2 (22)申请日 2023.03.10 (71)申请人四川万邦胜辉新能