一种可以防止抛光液吸入晶片背面的真空吸盘.pdfVIP

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2023-05-12 发布于北京
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一种可以防止抛光液吸入晶片背面的真空吸盘.pdf

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本发明提供一种可以防止抛光液吸入晶片背面的真空吸盘，其结构包括：固定座、固定孔、真空吸盘、抽气端、UV薄膜、吸附通路，其特征在于：固定座贯穿于固定孔中心，真空吸盘中心与固定孔为一体并与固定座进行固定连接，抽气端嵌入于真空吸盘上端，UV薄膜则覆盖于真空吸盘的上端并与抽气端相通；本发明由真空吸盘外增加一个新的一圈真空吸附通路，在晶片和真空吸盘之间设置一个UV膜，新的通路可以吸住UV膜，UV膜一面被真空吸住，另一面具有粘结力，使其能够粘接住晶片，并且新增加的通路具有相对较大的宽度，使得UV膜发生了弯曲

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114603486 A (43)申请公布日 2022.06.10 (21)申请号 202210231962.2 (22)申请日 2022.03.09 (71)申请人上海致领半导体科技发展有限公司地址